解析X射線光電子能譜分析法的功能及應(yīng)用領(lǐng)域
主要用于固體材料的表面元素成份及價態(tài)的定性、半定量分析,固體表面元素組成的深度剖析及成像。可應(yīng)用于金屬、無機材料、催化劑、聚合物、涂層材料礦石等各種材料的研究,以及腐蝕、摩擦、潤滑、粘接、催化、包覆、氧化等過程的研究。
主要附件:UPS、AES、SEM
1. 采用平均半徑165mm的半球型扇形能量分析器(Hemispherical Sector Analyzer,HSA)和180°球鏡能量分析器(Spherical Mirror Analyzer,SMA)。提高光電子的傳輸效率,增加能量分辨率。
2.羅蘭圓直徑500mm的大束斑Al單色X射線源和內(nèi)置掃描板的多組元靜電透鏡。不移動X射線照射束斑和樣品,通過直接改變光電子的采集區(qū)域達到選區(qū)分析的目的。只要保證加在掃描板上的偏壓電路保持穩(wěn)定,則采樣區(qū)域的重復(fù)就可以得到保證。
3.的磁沉浸透鏡和的低能電子荷電中和系統(tǒng)。由于大面積的X射線照射使得光電子發(fā)射相對分散,而且螺旋狀升降的電子云會地補償荷電效應(yīng),從而可以在操作上只需設(shè)置一個“普適”的中和參數(shù),就可以適用于99%以上的絕緣樣品。
4.采用了新一代的128通道的率檢測器——延遲線檢測器(Delay-Line Detector,DLD),使得該儀器可以超快速分析,實現(xiàn)收譜、成像、快拍(Snap Shot)功能。成像模式能夠提供256×256像素、空間分辨率小于3μm的二維圖像。
1.氫、氦元素不能檢測;
2.樣品要求:
(a) 無磁性;
(b) 無放射性;
(c) 無毒性;
(d) 無揮發(fā)性物質(zhì)(如單質(zhì)Na, K, S, P, Zn, Se, As, I, Te, Hg或者有機揮發(fā)物),避免對高真空系統(tǒng)造成污染;不大量放氣(尤其腐蝕性氣體);若含有高揮發(fā)性分子或者coating,請務(wù)必先自行烘烤抽除;
(e) 厚度小于2mm;
(f) 固體薄膜或塊狀固體樣品切割成面積大小為5mm×8 mm;
(g) 粉末樣品壓片(直徑小于8mm),如無法成形,粉末要研細,且不少于0.1g;
(a) 樣品分析面確保不受污染,可使用異丙醇,丙酮,正己烷,或三氯甲烷溶液(均為分析純)清洗以達到清潔要求;
(b) 使用玻璃制品(如表面皿、稱量瓶等)或者鋁箔盛放樣品,禁止直接使用塑料容器、塑料袋或紙袋,以免硅樹脂或纖維污染樣品表面;
(c) 制備或處理樣品時使用聚乙烯手套,禁止使用塑料手套和工具以免硅樹脂污染樣品表面;
4.有關(guān)檢測結(jié)果的分析,中心提供分析軟件和手冊,指導(dǎo)用戶根據(jù)樣品情況自行處理。
5.送樣前請先根據(jù)樣品測試要求填好“XPS樣品信息登記表”,表格下載從中心表格下載處下載。